北方华创14纳米 Hardmask PVD设备成功进入国际主流生产线验证

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近日，北方华创(002371)自主研发的14纳米硬掩膜物理气相沉积(Hard Mask Physical汽相沉积)设备成功进入国际主流集成电路生产线进行验证。这是继14纳米刻蚀机和单片退火设备之后，又一台进入工艺验证阶段的14纳米集成电路设备。

Tinhardmaskpvd是集成电路制造过程中的一个重要工艺步骤。基于多年集成电路pvd设备的技术积累，华北华创开发了exi tinⅱh 430 PVD设备，用于14nm tin硬掩膜薄膜沉积工艺。该设备以全新的设计理念实现了多项技术突破，关键技术指标达到国际先进水平。

作为中国集成电路制造设备的先锋，北华创坚持以客户为导向的持续创新理念，深入发展创新，不断为集成电路行业提供设备技术支持！

(汪洋)